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芯片加工厂的污水处理方法

分类:新闻资讯点击:598 发布时间:2023-08-08

芯片在整个加工生产过程中是极其复杂的,包括芯片设计、芯片生产、封装生产、检测等环节,每一步对于芯片清洗水质的要求都是极高的,在半导体芯片加工厂中会有大量的工业污水排放,今天就来了解一下:芯片加工厂的污水处理方法。




芯片加工厂的废水主要来源于:集成电路芯片的制造工艺复杂,包括硅芯片蚀刻、清洗、化学气相沉积等工艺反复交叉,生产中使用了大量的HF、H2SO4、NH3·H2O等化学试剂。


因此,芯片加工厂的废水可分为氨废水、CMP研磨废水、酸碱废水、氟废水、氮废水、酸碱废水。


芯片加工厂的污水处理工艺可分为以下几种:


1. 浓缩氨汽提吸收工艺——含氟废水两级沉淀工艺(含氟废水与CMP磨矿废水混合处理)——三级酸碱中和工艺


2. 出水氟离子浓度达到


3.水中氟离子浓度可控制在10mg/L以下:二次反应+沉淀+一次反应+沉淀的两级沉淀反应;


4. 两级反应槽和酸碱原液直接加入,出水不稳定,耗药量大;


不同的芯片加工所用的原料是不一样的,所以排放的废水中的污染物成分是不一样的,水处理工艺和使用的水处理剂也会有所不同。


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